EUV 레이저로 사진과 같이 찍어내리듯이 웨이퍼를 그려내는데,

현미경과 다르게 렌즈로 빛의 크기를 줄이는 과정에서 빛의 응축현상이 일어나는거야.

그래서 단위 면적당 밀도가 높아져 형상이 제대로 나오지 않지.

여기서 웨이퍼를 그려내는데, 해상도를 높게 잡으려면 전압이 높고, 

빛의 파장이 짧아야 돼, 이렇게 만들어진 빛의 밀도는 균등하게 낮추는 공정이 핵심이야.

만약에 처음이 전압이나 파장이 긴것으로 하면, 해상도가 제대로 나오지 않는 단점이 있어.

그래서 A1의 렌즈를 투과시켜서 빛의 밀도를 25%로 낮추는거지.

그러면 4배를 축소하고, 다시 반복해서 5번을 반복하는거야.

이러면 총 4X4X4X4X4 1024배가 작아져,

이 빛의 밀도를 균등하게 낮추는 렌즈를 개발하는것도 여러가지 방안이 있을꺼야.

물리적으로 가능하다는것은 이미 다 입증되었어. 

이 0.01나노를 그려내는 작은 렌즈를 어떻게 만드냐는거야.

그래서 나온게 바로 이어붙이기지.

0.01나노의 크기의 마스크를 100개를 이어 붙이는거야.

그러면 100개 크기가 커지겠지.

이것을 파장이 짧고 전압이 높은 빛으로 그려내고 그 빛을 축소시키는 렌즈의 크기가,

100배 커지겠지. 절대적으로 커진다는거야.

100개를 이어붙였더니 렌즈 크기가 100배가 커졌다.

1000개를 이어 붙이면 렌즈 크기가 1000배가 커지는거지.

작게 만들기는 어려워도 크게 만들기는 쉽자나.

이러면 0.01나노를 100개씩 1000개씩 한번에 그려내는거야.

여기서 핵심은 고전압의 파장이 짧은 빛을 이용해야, 해상도가 잘 나온다는점이고,

그림과 같이 볼록렌즈에서 만들어진 빛의 밀도를 균등하게 낮춘뒤,

오목렌즈로 상이 맺히는 앞부분에서 빛의 궤도를 변경해서,

다시 볼록렌즈로 축소하는 이 공정을 반복해 빛의 크기를 줄이는거야.

이 하나의 과정속에서 빛의 밀도를 줄이지 않으면, 

빛의 밀도가 겹쳐져서 형상이 제대로 나오지 않는다는거지.

0.01나노 마스크를 제작 조립 형태로 1000개를 이어붙이고,

렌즈도 제작 조립 형태로 1000배 크기로 만들면, 

0.0001나노도 가능하다는거지.

터널링 효과도 실리콘 잉곳을 압축하고 

그 안에 탄소를 넣고, 그래핀으로 코팅해서 실리콘에서 발생하는 열 전도율 높여, 

빠르게 식히고 터널링 효과도 막는거지.

터널링 효과는 웨이퍼 밀도가 낮아져서 생긴일이야. 

벽이 얇아져서 전압에 의해 전자가 뚫고 가는거지.

반도체 업계와 학계에서 2나노 이하는 불가능하다는 결론이 또 뒤집혔지. 

0.001나노도 가능하다는 결론이 나왔고, 반도체에 특이점이 온거야.